晶圆代工大厂三星宣布，正式开始使用其 7 奈米 LPP 制程制来生产晶圆。三星的 7 奈米 LPP 制程中使用极紫外光刻（EUV）技术，这将使三星 7 奈米 LPP 制程能够明显提升芯片内的晶体管密度，同时优化其功耗。此外，EUV 技术的使用还能使客户减少每个芯片所需的光罩数量，在降低生产成本下，还能缩短其生产的时间。
三星表示，7 奈米 LPP 制程在同样的复杂度下，相较前一代的 10 奈米 FinFET 制程，可以减少 40% 的芯片面积，同时降低 50% 的功耗，并且使效能提升提高 20%。另外，在生产成本上面，因为 7 奈米 LPP 制程加入了 EUV 技术，在采用 13.5nm 波长来曝光硅晶圆的情况下，相较过去采用 193nm 波长来进行曝光的传统的氟化氩（ArF）浸没技术，EUV 技术只需要单个光罩就能完成单层硅晶圆的曝光，而传统 ArF 则需要 4 个光罩来处理。所以，7 奈米 LPP 制程不仅降低了生产成本，还缩短了生产时间。
三星进一步指出，三星发展 EUV 技术开始于 2000 年代，透过三星与领先业界的设备供应商进行合作，在其生产设施中设计和安装全新设备，以确保 EUV 技术生产下的晶圆稳定性。目前，最初的 EUV 技术生产制程已经在三星位于韩国华城的 S3 Fab 开始，而到 2020 年之际，三星希望透过内建 EUV 技术的新制程，为需要大量生产下一代芯片的 IC 设计业者提供更大的产能。而且，三星还因为导入 EUV 技术，进一步开发了专有设备。例如独特的光罩检测工具，可在 EUV 光罩中执行早期缺陷检测，使得可以在制造生产的早期消除缺陷，提升良率。
三星还表示，新一代的 7 奈米 LPP 制程将瞄准包括 5G、人工智能、企业和超大规模资料中心、物联网、汽车和网络等应用的需求。此外，三星的 Advanced Foundry Ecosyste 也为导入内建 EUV 技术的 7 奈米 LPP 制程做好了准备。也就是，整个产业的生态系统合作伙伴，将提供包括基础和高级 IP、高级包装和服务，以使三星客户能够在这个新平台上开发他们的产品。目前，提供这些服务的厂商包括 Ansys、Arm、Cadence、Mentor、SEMCO、Synopsys 和 VeriSilicon 等，供应包括 HBM2 / 2E、GDDR6、DDR5、USB 3.1、PCIe 5.0 和 112G SerDes 等界面 IP 解决方案。
不过，三星这次没有透露其首个采用其 7 奈米 LPP 制程的客户名称，仅表示使用新制程的第一批芯片将会是针对行动和 HPC 应用为主。不过，依照过去的经验，三星电子会是半导体代工部门的第一个采用新制程技术的客户。因此，预计到 2019 年，三星将会将推出一款智能手机使用的自有品牌 7 奈米制程处理器。此外，目前三星代工事业的重要客户高通，预计也将会采用新的 7 奈米 LPP 制程技术来生产“Snapdragon 5G”行动处理器。
（首图来源：三星官网）
