目前半导体制程已微缩到 10 奈米以下，大家都寄望借由极紫外光微影设备（EUV）协助制程向前发展，也使摩尔定律（Moore’s Law）再往下延伸。不过就目前生产 EUV 设备的艾司摩尔（ASML）来说，因为制造难度，已积压了大量订单在手上。有国外媒体指出，艾司摩尔 EUV 设备生产不顺的主因，就是来自光学镜头供应商蔡司（Carl Zeiss）供货进度跟不上需求所致。
外媒报导指出，艾司摩尔 EUV 的光学镜头是德国蔡司公司生产，但蔡司的镜头供货量不足，导致艾司摩尔 EUV 极紫外光微影设备生产进度缓慢。据了解，7 月艾司摩尔出具报告，至今已积了多达 21 台 EUV 订单，每台 EUV 订单成本高达 1.5 亿美元，而 2017 年底前最多只能交付 8 到 9 台 EUV 设备。
报导指出，根据外界预估，三星和台积电都宣布将在 2018 年试生产内含 EUV 技术的圆晶制程，使 2017 年 EUV 设备的销售金额预计达 14.82 亿美元，这比 2016 年的 10.36 亿美元足足成长了 43%，且这个数字在 2019 年还将进一步上升到 30 亿美元。
艾司摩尔的客户都是一些半导体大厂，比如台积电、三星、英特尔（Intel）等，如果拿不到 EUV 设备，新世代制程的生产计划必定会受影响，谁也不想看到这样的情况发生。据了解，目前 EUV 设备生产还面临一些问题需调整。除了蔡司镜头供应不足，还有芯片保护膜仍需改进。
现阶段，在三星和台积电都宣布将试产内含 EUV 技术的圆晶，反观半导体大厂 Intel 的态度则不疾不徐。虽然 Intel 不是目前第一个采用 EUV 技术量产圆晶的企业，但将来 Intel 或许会是买最多 EUV 设备的公司。
2017 年三星资本支出已达 170 亿美元，Intel 则是 120 亿，台积电也有 100 亿元，最少的是格罗方德，只有 25 亿美元。但所有厂商在 EUV 部分的花费总共才 14.82 亿元。预估 2019 年这个数字会进一步上升至 30 亿美元，Intel 为加速步伐，并与竞争对手抗衡，将会较大程度的采购 EUV 设备来强化技术，这就是关键手段之一。
（首图来源：艾司摩尔）
