《路透社》报导，美中科技战影响下，冲击到韩国内存制造商 SK 海力士中国无锡厂扩产计划。原本 SK 海力士希望中国无锡厂采用含极紫外光曝光设备 EUV 先进制程生产内存，以因应市场需求，然而美国-限制 EUV 设备进入中国，扩产计划陷入胶着。
美中科技战影响，美国-认为 EUV 曝光设备协助中国提高国防军事力量，禁止设备输往中国。对是否阻止 SK 海力士中国无锡厂使用 EUV 光设备，虽然美国官员没有正面回应，仍表示拜登-专注阻止中国利用美国和盟国设备与技术，开发先进半导体助中国军事现代化。
SK 海力士中国无锡工厂对该公司及全世界内存产业来说都相当重要，因占总产量一半，且占全球 DRAM 供应量 15%。DRAM 产业 2021 年市场需求较前一年提升 19%，任何变动都会使全球市场动荡。SK 海力士无锡工厂原本要采用含 EUV 曝光设备的先进制程，2~3 年内生产更先进 DRAM，不过现在可能面临难题。
知情人士透露，SK 海力士无锡工厂无法使用含 EUV 曝光设备的先进制程后，SK 海力士与三星与美商美光的竞争会居劣势。竞争对手预计分别在韩国及台湾生产据点采用含 EUV 曝光设备的先进制程生产 DRAM，不仅 SK 海力士公司内部严重关切，甚至高层也与美国积极讨论。SK 海力士发稿前并没有正式声明，仅指公司尽最大努力回应市场和客户需求。
报告引用市场分析师说法，即便 SK 海力士将 EUV 曝光设备运往中国无锡工厂，使用者还是 SK 海力士，不过这其实与中国企业企图输入 EUV 曝光设备相差无几。市场研究及调查机构 VLSIresearch 首席执行官 Dan Hutcheson 说，SK 海力士目前被夹在美中角力之间，美国-禁止输出高科技产品到中国的禁令，几乎涵盖外国与中国企业所有范围。一旦 EUV 曝光设备输入中国，美国担心不知道会落到谁手上，且中国总能把 EUV 曝光设备拿去做想做的事。
(首图来源：SK 海力士)
