半导体晶圆设备供应商 EV Group（EVG）宣布，推出新一代奈米压印与晶圆级光学系统 EVG 7300，可在单一平台上结合如奈米压印微影技术（NIL）、透镜压铸与透镜堆叠（UV 接合）等多重基于 UV 架构的制程；并支援大至 300 毫米的晶圆尺寸，并具备高精度对准功能、先进制程控制与高制程产出量，满足各种自由形式及高精度奈米和微型光学元件与设备的量产需求，如晶圆级光学（WLO）、光学感测器与投影机、汽车照明等。
据悉，EVG7300 做为 UV 奈米压印微影（UV-NIL）的全整合解决方案，其中还可增加如清洗、光阻涂层，以及烘烤或后处理等额外的预处理步骤，以最佳化特定制程的需求。
这套系统透过结合对准阶段的改善、高精度光学元件、多点间隙控制、非接触式间隙量测与多点力控制，具最高可达 300 奈米的对准精度。同时，该系统还提供三种不同的制程模式，包含透镜压铸、透镜堆叠与 SmartNIL 奈米压印，并支援 150 毫米到 300 毫米晶圆的基板尺寸；且模板与晶圆的快速装载、快速对准的光学元件、高功率固化以及极小的工具占用空间，使这套高效平台能够满足业界对崭新 WLO 产品的制造需求。
EV Group 企业技术总监 Thomas Glinsner 表示，最新推出的奈米压印解决方案，将 SmartNIL 全域压印技术及透镜压铸和透镜堆叠结合成一套的系统，具备更精确的对准与制程参数控制，为产业研究与生产需求提供更多弹性。
（首图来源：EVG）
